Monitoraggio dei costosi gas puri nella produzione di semiconduttori
Nella produzione di semiconduttori, gas compressi ad alta purezza come azoto (HP N2), argon (HP Ar), elio (HP He) e aria secca pulita (CDA) svolgono ruoli cruciali in vari processi. L'azoto è comunemente usato per lo spurgo e l'inertizzazione per prevenire ossidazione e contaminazione. L'argon è essenziale per l'incisione e lo sputtering del plasma, grazie alle sue proprietà di elemento inerte che garantiscono la rimozione e la deposizione precise del materiale. L'elio, grazie alla sua superiore conduttività termica, è fondamentale nei sistemi di raffreddamento e per il rilevamento delle perdite. L'aria pura, ovvero priva di contaminanti, viene utilizzata in camera sterile per garantire i rigorosi standard di qualità.
La misurazione della portata di questi costosi gas è fondamentale per garantire un costante controllo dei costi, oltre che del processo, dell'efficienza e della sicurezza. Il monitoraggio preciso della portata consente un'erogazione accurata dei gas, riducendo al minimo gli sprechi e garantendo prestazioni ottimali nei processi di produzione.
