Monitoramento de gases puros caros na fabricação de semicondutores
Na fabricação de semicondutores, gases comprimidos elevados como nitrogênio (HP N2), argônio (HP Ar), hélio (HP He) e ar seco limpo (CDA) desempenham papéis cruciais em vários processos. O nitrogênio é comumente usado para purga e inertização para evitar oxidação e contaminação. O argônio é essencial na decapagem seca e pulverização catódica devido às suas propriedades inertes, garantindo a remoção e o depósito precisos do material. O hélio, com sua condutividade térmica superior, é vital em sistemas de resfriamento e de detecção de vazamentos. O ar puro, livre de contaminantes, é usado em ambientes de sala limpa para manter rigorosos padrões de qualidade.
A medição da vazão desses gases caros é fundamental para garantir um controle de custos consistente, o controle do processo, a eficiência e a segurança. O monitoramento preciso da vazão permite a aplicação precisa de gás, minimizando os resíduos e garantindo um desempenho ideal nos processos de fabricação.
